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Canon greift ASML an: Drei Patente für Nanoimprint-Lithografie unter 5 nm — zum Drittel des Preises

·Pandorex Redaktion·7 min Lesezeit
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In der Woche zum 15. Februar 2026 hat Canon fünf der zehn am höchsten bewerteten Patente aller 8.947 geprüften Grants erhalten. Drei davon betreffen direkt Nanoimprint-Lithografie (NIL): US12546973, US12547069 und US12547070. Der durchschnittliche Qualitätsscore von Canon lag bei 71 — der höchste aller Unternehmen mit mehr als 50 Patenten in dieser Woche.

Was Nanoimprint-Lithografie ist

NIL ist eine Alternative zur EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolet), die derzeit von ASML dominiert wird. Statt Licht durch Masken zu projizieren, presst NIL eine physische Vorlage (Template) in ein Resistmaterial auf dem Wafer — ähnlich einem Stempel. Das Ergebnis: Strukturen unter 5 nm, bei deutlich niedrigeren Kosten.

Die drei Kernpatente

  • US12546973: Optisches System für Sub-5-nm-Auflösung — beschreibt die Präzisionsoptik zur Ausrichtung der Imprint-Templates
  • US12547069: Template-Herstellung für NIL — Verfahren zur Produktion der Nano-Stempel mit atomarer Präzision
  • US12547070: Multi-Layer-Alignment in Hochdurchsatz-Imprint-Systemen — Lösung für das kritische Problem der Schichtausrichtung bei mehrlagigen Chips

Warum das ASML betrifft

Eine EUV-Anlage von ASML kostet über 150 Millionen Dollar. Canons NIL-Systeme liegen bei geschätzt 40 Millionen Dollar — weniger als ein Drittel. Für Foundries der zweiten Reihe (nicht TSMC oder Samsung, sondern GlobalFoundries, UMC, oder chinesische Hersteller) wird das zum relevanten Faktor.

Canons Expertise aus Kameras, medizinischer Bildgebung und Halbleiter-Equipment übersetzt sich direkt in Lithografie-Präzision. Die Patente positionieren Canon als potenziellen Zulieferer für Intel, TSMC und Samsung — oder als Alternative für alle, die sich EUV nicht leisten können oder wollen.

Einschränkungen

NIL hat bekannte Limitierungen: Defektrate durch physischen Kontakt, Durchsatz bei Massenproduktion, und Template-Verschleiss. Canons Patente adressieren einige davon, aber ob die Technologie in der Volumenproduktion mit EUV konkurrieren kann, ist noch offen. Für spezialisierte Anwendungen (Speicherchips, Sensoren, Forschung) ist sie bereits kommerziell einsetzbar.

Quellen: USPTO US12546973, US12547069, US12547070. ReadyDone Notable Patents Report KW7/2026 (1.972 notable patents aus 8.947 grants). Canon Score: 71 Durchschnitt, höchster Wert aller Top-Unternehmen.

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